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高低溫探針臺
CG-196
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臺灣奕葉CG-196高低溫探針臺的探針座架設在真空腔體外側(cè),在不破壞溫度及真空環(huán)境的情況下,隨著元件的冷縮熱膨,探針座可配合將探針做重復修改下針. 為消除來自于真空幫浦及地的震動,內(nèi)置主動氣浮式防震桌. 探針座最少2 組最多8 組,真空10exp-3 Torr 到10exp-6 Torr, 甚至提供腔體正壓到達10atm,超低溫達4度K ,超高溫達1200°C,除了DC直流pA應用之外,RF射頻也能勝任到40GHz.適合感知器,航太及軍事 精密產(chǎn)品電特性分析
廠家
臺灣弈葉
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臺灣奕葉CG-196高低溫探針臺的探針座架設在真空腔體外側(cè),在不破壞溫度及真空環(huán)境的情況下,隨著元件的冷縮熱膨,探針座可配合將探針做重復修改下針. 為消除來自于真空幫浦及地的震動,內(nèi)置主動氣浮式防震桌. 探針座最少2 組最多8 組,真空10exp-3 ?Torr 10exp-6 Torr, 甚至提供腔體正壓到達10atm,超低溫達4K ?,超高溫達1200°C,除了DC直流pA應用之外,RF射頻也能勝任到40GHz.適合感知器,航太及軍事 精密產(chǎn)品電特性分析。

在真空環(huán)境下,探針臺有兩種應用:

一、超低溫情況下:

由于晶圓在超低溫情況下進行探測,水氣將會出現(xiàn)并且將會凍結(jié)晶圓。水氣將會影響測量,導致測量失敗。真空倉中的水氣將通過真空泵排出,真空泵必須具備長時間測量的要求。

二、高溫情況下:
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當晶圓加熱超過300攝氏度, 400攝氏度, 500攝氏度或者更高溫度時,會發(fā)生很強烈的氧化。溫度越高,越加大硅片表面的氧化,氧化將使晶圓降低電學性,物理性和機械性。真空倉中的氧氣通過真空泵來排出。真空泵必須能夠保持長時間的測量要求。
由于卡盤將被熱量所控制,應用于超低溫和高溫的環(huán)境,在晶圓上探針由于晶圓的收縮和膨脹,將需要一定的改變位置。因此,一些探針將需要通過真空倉之外的探針座的三軸控制旋鈕重新定位。外部的機動探針座可通過拉桿控制系統(tǒng)輕松地重新定位真空倉中的探針。

三、特點:

·???????? 三種溫度范圍可選擇:
77K
480K ?(-196℃—200)
77K
780K ?(-196℃—500)
77K
1080K (-196℃—800)

·???????? 所有框架采用焊接以保證堅固的結(jié)構(gòu)

·???????? 通過外置探針座來控制探針重新定位

·???????? 橋型結(jié)構(gòu)顯微鏡以方便打開真空倉

·???????? 顯微鏡可通過鏡臺控制精確地移動,X-Y軸移動范圍 1英寸—1英寸

·???????? 可升級到6個探針座

·???????? 雙屏蔽chuck高低溫時達到10pA精度

·???????? 可選擇防震桌

·???????? 可選擇高真空倉

四、規(guī)格:

l?卡盤直徑40mm

l?溫度的精度為0.1度

l?液氮瓶50升

l?探針座X-Y-Z三軸移動范圍:25mmx25mmx25mm,精度10微米

l?顯微鏡X-Y軸移動范圍:1英寸x1英寸

l?連續(xù)變焦:0.8X—-5X?

l?目鏡:20X

l?總放大倍數(shù):16X—100X

l?150W燈源箱

l?雙分支鵝頸管燈源

l?尺寸:1300mm長x1100mm寬x1500mm高

l?重量:300Kg

五、操作說明:

l?溫度控制單元:

當需要溫度達到室溫以下時,卡盤需要通過液氮來降溫以達到溫度低于事先設置的溫度。比例積分微(PID)分控制器可以準確的控制溫度來加熱卡盤中的熱敏器件。

l?液氮單元

氮氣是必須必備的,通過氮氣加壓真空瓶來推動液氮的流出,液氮的容量可以通過氮氣的壓強、液氮的進氣閥和出氣閥來控制。

l?真空倉單元

真空倉可通過真空泵產(chǎn)生10-3?托的壓強提供給超低溫的應用;

BNC母接頭用來連接探測設備的信號裝置;

真空泵可提供排氣過濾作用,以避免污染客戶的環(huán)境;

l?探針座單元

所有探針座都在真空倉外設置,這將幫助工程師在真空組織下進行探測時不用排出真空倉內(nèi)的氣體。特別是,當溫度降低的時候,晶圓開始收縮,探針已經(jīng)離開需要探測的測試樣品,工程師需要重新設置探針,將探針扎到測試樣品上。

l?顯微鏡單元:

顯微鏡可以通過橋梁結(jié)構(gòu)移動到旁邊,以方便打開真空倉的蓋子。顯微鏡可以通過真空倉上面得窗口觀察,

燈光可以通過階梯式旋鈕控制亮度,雙分支鵝頸式光纖引導源可以用于定位及分離目標。

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